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氟化鈣(CaF2)鏡片
氟化鈣(CaF2)鏡片
氟化鈣(CaF2)鏡片
氟化鈣(CaF2)鏡片
紅外光學

氟化鈣(CaF2)鏡片

氟化鈣 (CaF2) 鏡片由氟化鈣基材製成。氟化鈣材料具有較寬的透射光譜範圍(180nm-8.0μm),具有高損傷閾值、低螢光、高均勻性和柔軟的物理性能,被用作多種光學元件的基礎。

主要特點
  • 超寬傳輸範圍
    超寬傳輸範圍

    其傳輸波段涵蓋紫外線、可見光、中紅外線(約0.13-10μm)。它幾乎是標準選擇,特別是在180 nm以下的深紫外線和3-5 μm的中紅外線波段。

  • 低折射率低色散
    低折射率低色散

    折射率約1.35-1.51,阿貝數高達95,有效降低表面反射損耗,顯著降低色差,使其成為高品質成像系統的理想材料。

  • 高雷射損傷閾值
    高雷射損傷閾值

    可以承受極高的雷射能量,使其非常適合與準分子雷射等高功率雷射光源一起使用。

  • 物理和化學特性
    物理和化學特性

    與其他氟化物相比,它具有優異的防潮性,硬度是氟化鋇的兩倍,並且具有出色的光學均勻性且無雙折射。

規格 氟化鈣(CaF2)鏡片

材料

氟化鈣 (CaF2)

焦距公差

±3%

尺寸公差

±1%

厚度公差

±0.03毫米

表面精度

△/v=0.3nm

表面質量

10/5

中心化

< 1 弧分

通光孔徑

> 90%

倒角

< 0.1

典型應用領域
  • 雷射技術
    雷射技術
    用於準分子雷射和中紅外線量子級聯雷射(QCL)的光路建構。
  • 光譜分析
    光譜分析
    涵蓋較寬的波長範圍,適用於紫外線、可見光和紅外光譜儀。
  • 成像系統
    成像系統
    用於復消色差透鏡、高解析度顯微鏡、紫外光刻機和天文觀測。
  • 紅外線熱成像
    紅外線熱成像
    應用於中波紅外線(MWIR)熱成像系統。
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